MDS Edelstahl-Vortex-Magnetantriebspumpe
Produktübersicht
Die MDS Magnetantriebs-Wirbelpumpe für hohe und niedrige Temperaturen verfügt über medienberührte Teile aus Edelstahl. Durch die wellendichtungslose Magnetantriebsbauweise wandelt sie dynamische in statische Dichtungen um und gewährleistet so Sicherheit und Stabilität der Pumpe unter kryogenen und Hochtemperaturbedingungen. Als Halbleiter-Spezialpumpe bedient die MDS Präzisions-Temperaturregelpunkte entlang der gesamten Wafer-Prozesskette, darunter Polier- und Reinigungslinien, CMP-Konditionierung, Dünnschichtdeposition (CVD/PVD), Kühlung von Ätzsystemen sowie Verpackungs- und Testanlagen. Die helium-leckgeprüfte Abdichtung hält hochreine Prozessmedien sicher eingeschlossen und schützt die Fab-Umgebung. Dieselbe kompakte, leckagefreie Bauweise unterstützt KI- und Hochleistungsrechner-Anwendungen: Mikrokanal-Kühlkreisläufe, Flüssigkühlkreise für die thermische Validierung von Chips und Servern sowie die Temperaturregelung optischer Linsen. Für Medien von −196°C bis +400°C fördert die MDS Wasser-Glykol-Gemische und andere Kühlmittel in platzbeschränkten OEM-Geräten.
Produktmerkmale
- Der Pumpenkörper wird mit einer hoch verschleißfesten D-Typ-Verarbeitungstechnologie behandelt
- Präzisionsguss mit Mitteltemperaturwachs und mehrstufiger Oberflächenbehandlung
- Hochdruck-Dichtungstechnologie, geprüft durch Helium-Lecksuche
- Kontaminationsfreier Medienpfad aus Edelstahl mit statischer Abdichtung für hochreine Halbleiter-Prozessmedien
- Kompakte Wirbelhydraulik mit Förderhöhen von 20–100 m bei 0,5–8 m³/h für Präzisions-Temperaturregelkreise
- Geeignet für Wasser-Glykol-Gemische in KI-Chip- und Mikrokanalkühlsystemen
- Integrationsfertige Kompaktbauweise für OEM-Temperaturregel- und Prüfgeräte
Technische Daten
| Modell | Durchmesser | Motor | Leistungsparameter | Pumpengewicht (kg) | ||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Einlass | Outlet | Leistung (kW) | (HP) | Spannung (V) | Frequenz (Hz) | Geschwindigkeit (U/min) | Maximale Kopfhöhe (m) | Maximale Fördermenge (l/min) | ||
| MDS-15 | G1/2" | G1/2" | 1.1 | 1,5 | 3Φ-380 | 50 | 2760 | 55 | 35 | 13,5 |
| MDS-20 | G3/4" | G3/4" | 1,5 | 2 | 3Φ-380 | 50 | 2760 | 70 | 60 | 22 |
| MDS-30 | G3/4" | G3/4" | 2.2 | 3 | 3Φ-380 | 50 | 2760 | 90 | 60 | 26 |
*Die obigen Kennwerte basieren auf Wasserförderung bei Normaldrehzahl und 20°C. Der Toleranzbereich der Leistungsparameter liegt bei etwa ±10%. Die Pumpenleistung variiert je nach Mischungsverhältnis und Dichte des flüssigen Mediums.
Pumpenstruktur
Die Produktionsstruktur der MDS-Pumpe besteht aus Pumpendeckel, Spindel, Laufrad, Pumpenkörper, Achshülse, Dichtungsring, Innenmagnet, Isolierdeckel, Außenmagnet und Motor und bildet eine verschleißfeste, leckagefreie Baugruppe für den Transfer von kryogenen und Hochtemperaturflüssigkeiten.
Leistungskennlinie
Die Produktionsstruktur der MDS-Pumpe besteht aus Pumpendeckel, Spindel, Laufrad, Pumpenkörper, Achshülse, Dichtungsring, Innenmagnet, Isolierdeckel, Außenmagnet und Motor und bildet eine verschleißfeste, leckagefreie Baugruppe für den Transfer von kryogenen und Hochtemperaturflüssigkeiten.
Betriebsbedingungen
| Mittlere Temperatur | Mittlere Dichte | Umgebungstemperatur | Maximale Höhe | Maximaler Widerstandsdruck |
|---|---|---|---|---|
| -196 °C ~ +400 °C | 0,6 ~ 2,0 | -50 °C ~ +70 °C | 5000 m | 70 bar |
Einsatzgebiet
Die MDS wird in vier Anwendungsgruppen eingesetzt, in denen kompakte Bauweise, Leckagefreiheit und Präzisionstemperaturregelung zusammentreffen.
Halbleiterfertigung
Präzisionstemperaturregelung und Medienzirkulation für Wafer-Polier- und Reinigungslinien, CMP-Temperaturkonditionierung (chemisch-mechanische Planarisierung), Dünnschichtdepositionsanlagen (CVD/PVD), Kühlung von Ätzsystemen sowie Verpackungs- und Testanlagen. Die helium-geprüfte statische Abdichtung und der Medienpfad aus Edelstahl schützen hochreine Prozessmedien vor Kontamination und die Fab-Umgebung vor Leckagen.
KI- und Hochleistungsrechner-Kühlung
Mikrokanal-Kühlkreisläufe, Flüssigkühlkreise für die thermische Validierung von KI-Chips und Servern sowie Kühlmittelzirkulation in kompakten Prüfständen für Hochleistungsrechner-Hardware. Die Pumpe fördert Wasser-Glykol-Gemische bei stabilem Druck und kleinem Volumenstrom und passt in platzbeschränkte OEM-Kühlmodule.
Optik und Präzisionsinstrumente
Präzisionstemperaturregelung optischer Linsen, Hoch-Tieftemperatur-Prüfkammern und -geräte sowie thermische Konditionierungssysteme in Laborqualität, die eine stabile, pulsationsfreie Zirkulation in kompakter Bauweise erfordern.
Prozess- und Reinigungsanlagen
Mikrokanalreaktoren, Ultraschallreinigungsanlagen und andere kompakte Zirkulationsaufgaben in chemischen und verfahrenstechnischen Anwendungen, die korrosionsbeständige, leckagefreie Fluidförderung erfordern.
Produktzertifizierung
